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          sterlitech攪拌池常見問題解答

          更新時間:2022-02-14      點擊次數(shù):1918

          sterlitech攪拌池常見問題解答

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          是的,您可以切割膜以適合您的攪拌池。您可以使用來自攪拌池的支撐盤作為模板。  

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          任何傳統(tǒng)的磁力攪拌板都可以使用。Sterlitech 推薦Scilogex MS7-H550-Pro大型 7 英寸方形陶瓷底座為攪拌單元提供了良好的基礎(chǔ),而數(shù)字顯示屏確保了對攪拌功能的精確可重復(fù)控制。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          是的,您可以在攪拌池中使用AO 膜盤式過濾器。這些盤式過濾器非常易碎,必須小心處理以避免破損。膜鑷子  小心地將盤式過濾器放在支撐盤表面,然后將支撐盤安裝在攪拌池體內(nèi)。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          是的,您幾乎可以在攪拌池中使用所有微濾膜盤式過濾器 。是陶瓷膜盤式過濾器;這些太厚了,無法放入攪拌的細(xì)胞中。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          是的,對于將與水或水溶液一起使用的平板膜,我們建議您在進(jìn)行分離實驗之前對膜進(jìn)行預(yù)處理。預(yù)處理有助于確保膜按預(yù)期運行。此外,預(yù)處理可去除膜上的防腐劑和其他殘留物。

          要對膜盤進(jìn)行預(yù)處理,請將其安裝在攪拌池中,然后用純化的去離子水填充攪拌池。在分離實驗預(yù)期的壓力和溫度下啟動攪拌池的操作。讓電池運行,直到滲透通量穩(wěn)定在預(yù)期值。然后釋放壓力,丟棄任何殘留在攪拌池中的水,并從滲透收集容器中丟棄水。您現(xiàn)在可以通過用所需的進(jìn)料樣本重新填充單元來繼續(xù)您的實驗。任何時候都不應(yīng)讓濕潤的膜盤變干。  

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          重要的是要注意,膜制造商的截留率和滲透通量規(guī)格通常基于使用標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)料流和壓力以錯流模式運行的大面積螺旋纏繞膜元件的測試。對于與標(biāo)準(zhǔn)測試條件不相似的進(jìn)料流和壓力,排斥和滲透通量會有所不同,這是正常的,也是可以預(yù)料的。這也是正常的,并且可以預(yù)料,對于膜活性區(qū)域比螺旋纏繞元件小得多的設(shè)備(例如攪拌電池)的已發(fā)布規(guī)格,排斥和滲透通量將具有更大的可變性。攪拌細(xì)胞進(jìn)料中的一定濃度的積累是不可避免的,這可能會影響排斥和滲透通量。

          在使用攪拌池時,有一些策略可用于優(yōu)化排斥和滲透流。首先,應(yīng)使用純化的去離子水對膜進(jìn)行預(yù)處理。有關(guān)預(yù)處理程序,請參閱操作手冊。其次,確保攪拌棒以適當(dāng)?shù)乃俣日_轉(zhuǎn)動。第三,操作壓力應(yīng)與膜制造商的推薦壓力相對應(yīng)。最后,您可能希望在攪拌池中仍有一些進(jìn)料液殘留時停止實驗,以減輕與濃度增加相關(guān)的影響。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          是的,您可以將滲透線直接連接到儀器上。然而,重要的是要了解,如果膜失效或被允許干燥,則可以將全部進(jìn)料壓力施加到滲透線。如果儀器不能承受進(jìn)水壓力,則不建議直接連接滲透線。或者,如果膜過早結(jié)垢(由于高 TDS 或顆粒負(fù)載),滲透物水平可能會下降到 HPLC 入口處的檢測值以下。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           


          攪拌池設(shè)計用于接受厚度為 350 微米或更小的平板膜。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           


          HP4750X 攪拌池本身的最高工作溫度為 400°F (205°C),≤2000psi (138bar)。然而,實際的最高工作溫度可能會受到密封彈性體或所使用的膜的限制

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           


          HP4750X 攪拌池頂部的壓力端口有 1/4" NPT 內(nèi)螺紋。如果使用機(jī)械攪拌器,軸適配器中的壓力端口有 1/8" NPT 內(nèi)螺紋。

          HP4750X 攪拌池主體中的滲透端口有 1/8" NPT 內(nèi)螺紋。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          氏合金 HP4750X 攪拌池用于對 316L 不銹鋼具有腐蝕性的進(jìn)料溶液,例如高鹽度海水、酸和具有非常高 TDS 的類似溶液。 

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          螺旋元件和平板膜的流動特性明顯不同,實際上只能在定性基礎(chǔ)上進(jìn)行比較。在工廠、實驗室或其他地方使用的膜制造過程中的可變性、水成分、測試程序和測試設(shè)備的差異都會影響水通量結(jié)果。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          HP4750 攪拌池將接受直徑為 47 毫米至 49 毫米的膜盤。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          HP4750X 攪拌池設(shè)計用于在比 HP4750 攪拌池更高的壓力(高達(dá) 2500psi)和更高的溫度(高達(dá) 400F)下運行。HP4750X 電池的頂蓋和底蓋通過高強(qiáng)度螺栓固定,標(biāo)準(zhǔn) HP4750 使用夾具組件固定蓋。此外,HP4750X 的標(biāo)準(zhǔn)密封彈性體是 Viton。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          HP4750X 攪拌池體由 316 不銹鋼制成,但也可用于高腐蝕性環(huán)境的 Hastelloy C-276。磁力攪拌棒涂有 PTFE 涂層,以防止腐蝕并確保廣泛的化學(xué)相容性。標(biāo)準(zhǔn)密封件由氟橡膠組成;其他密封彈性體是可選的。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           


          HP4750X 攪拌池在室溫下的最大工作壓力為 2500psi (172bar)。然而,實際的最大工作壓力可能會受到所使用的膜的限制。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          Sepa CF、CF042 和 CF016 測試池在真正的錯流模式下運行,并具有濃縮液和滲透液流。根據(jù)系統(tǒng)設(shè)計和所處理的流體,它們在用戶選擇的壓力和流量參數(shù)下運行,并允許連續(xù)測試和取樣。HP4750 攪拌池是一個封閉的批處理系統(tǒng),最大進(jìn)料量為 300mL,通常加壓壓縮氣體。攪拌池在正常流動模式下運行,沒有濃縮流。攪拌棒作用用于模擬膜表面附近的橫流。

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           


          HP4750X 攪拌池將接受直徑為 47 毫米至 49 毫米的膜盤

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

          機(jī)械攪拌器 通常用于處理會使磁力攪拌棒停止工作的高粘度流體    

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           

           這些膜尺寸旨在用于 Sterlitech 提供的工作臺規(guī)模交叉流測試池。請查看我們提供的平板膜數(shù)量及其尺寸:

          • HP4750 攪拌池: 47 毫米 (1.85") 圓盤

          • CF016電池: 58 x 75mm (2.26 x 2.95") 優(yōu)惠券

          • CF042電池: 56 x 115 mm (2.20 x 4.53") 優(yōu)惠券

          • Sepa CF 電池: 140 x 190 mm (5.51 x 7.48") 優(yōu)惠券

          • CF047圓形電池: 47mm 碟片

          • CF090圓形電池: 90 毫米圓盤

           

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